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另一常用技术是磁控溅射。在磁控溅射镀膜中，辉光放电形成的离子将靶材溅射出来，沉积在工件上。这一镀膜的优点是涂层细腻，工件升温少。缺点是速度慢、离化率低、涂层附着力差、粒子绕射性差、镀复杂表面时容易形成色差。北京东方亚科技术发展官网主要用于塑料等不耐温的工件、贵金属膜层，如金；平面镀膜，如在平板玻璃表面镀反射膜和彩膜，工艺过渡层如镀镍等。最近几年，中频溅射技术的快速发展，使得磁控溅射设备得到了长足进步。
离子镀膜技术是一种在真空中进行的物理气相沉积（PVD），包括电弧镀膜、北京东方亚科技术发展有限公司▲空心阴极镀膜、磁控溅射镀膜、电子束镀膜等许多方法，其中多弧镀膜技术和中频溅射技术被认为最具市场价值。多弧镀膜技术的基本原理是：在真空室中利用弧光放电的大能量将镀料离化生成等离子体，通过电场进行加速并与反应气体生成金属陶瓷化合物，最后沉积在工件表面。
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人类在追求完美的过程中不断发展，这也成为产品进步的动力。产品的完善首先体现在外表上，表面处理不仅可以改变产品的外观和颜色，还可以提高其品质，成为工业生产不可缺少的技术。表面处理有喷漆，电镀等传统方式，这些方法所制作的涂层附着力差，生产过程有污染。
